国产光刻胶实现多项突破 政策助力技术飞跃

摘要： 久日新材在投资者互动平台表示，公司正在开发KrF、ArF和EUV光刻胶所需的光致产酸剂产品。美国最近将多家中国科技公司列...

久日新材在投资者互动平台表示，公司正在开发KrF、ArF和EUV光刻胶所需的光致产酸剂产品。美国最近将多家中国科技公司列入“实体清单”，进一步强化对华科技围堵。在此背景下，中国各部委密集出台政策支持光刻胶技术突破与产业链自主可控。

《国家集成电路产业投资基金三期规划》明确将光刻胶等半导体材料列为重点投资领域，计划投入超过500亿元支持关键材料研发及产业化。科技部“十四五”新材料专项提出，到2025年实现KrF/ArF光刻胶国产化率提升至10%，并布局EUV光刻胶预研，设立专项经费超过20亿元。工信部的《新材料产业高质量发展行动计划》要求重点突破光刻胶树脂、光敏剂等核心原料技术，并对通过验证的企业给予税收减免及设备采购补贴。

在政策的支持下，中国企业在国产光刻胶上取得了多项突破。2024年，湖北某半导体材料公司自主研发的ArF/KrF光刻胶通过客户评估，获得两家晶圆厂订单，总额超过100万元，实现了从原材料到成品的全流程国产化。2025年恒坤新材将从科创板IPO募资15亿元，投向安徽生产基地，其KrF光刻胶已批量供应12英寸产线，覆盖7nm工艺，预计2025年底产能将达到500吨/年。

光大证券分析，当前中国KrF/ArF光刻胶国产化率不足5%，EUV光刻胶仍依赖进口。机构预期2025-2030年国产替代率将每年提升3-5个百分点，带动本土企业营收增长超50%。据SEMI测算，2025年全球光刻胶市场规模将达到150亿美元，其中中国占比超过30%，年复合增长率约为12%。

截至2025年3月，Wind光刻胶指数动态市盈率约为45倍，低于半导体设备（60倍）和芯片设计（55倍），部分龙头公司估值处于历史低位。可以关注在光致产酸剂、树脂等环节取得突破的公司。